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पता लगाने और तुलना माध्यम के रूप में, ऑक्सीजन, नाइट्रोजन, हीलियम, लेजर मिश्रण का उपयोग विभिन्न चिकित्सा उपकरणों में किया जाता है;सभी प्रकार के उच्च तकनीक अनुसंधान और परीक्षण औद्योगिक गैसों से अविभाज्य हैं, जैसे: मौसम संबंधी क्रोमैटोग्राफ, मास स्पेक्ट्रोमीटर,
कमरे के तापमान पर कंडक्टर और इंसुलेटर के बीच प्रवाहकीय गुणों वाली सामग्री का उपयोग एकीकृत सर्किट, उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स, संचार प्रणाली, फोटोवोल्टिक बिजली उत्पादन, प्रकाश व्यवस्था, उच्च-शक्ति बिजली रूपांतरण और अन्य क्षेत्रों में किया जाता है, डायोड,
फोटोवोल्टिक प्रौद्योगिकी के विकास ने इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में गैस की मांग बढ़ा दी है।जैसे रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) या भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी), इन प्रौद्योगिकियों का उपयोग मुख्य रूप से अर्धचालक या फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के निर्माण के लिए किया जाता है।नाइट्रोजन ट्राइफ्लोराइड (NF3),
एक पता लगाने और तुलना माध्यम के रूप में, ऑक्सीजन, नाइट्रोजन, हीलियम, लेजर मिश्रण का उपयोग विभिन्न चिकित्सा उपकरणों में किया जाता है; सभी प्रकार के उच्च तकनीक अनुसंधान और परीक्षण औद्योगिक गैसों से अविभाज्य हैं, जैसे: मौसम संबंधी क्रोमैटोग्राफ, मास स्पेक्ट्रोमीटर, परमाणु अवशोषण;
वाहक के रूप में ऑक्सीजन के साथ उच्च शुद्धता वाली उपयोगी गैस को ठोस चरण जमा प्राप्त करने के लिए घूर्णन क्वार्ट्ज ट्यूब में उच्च तापमान वाष्प चरण ऑक्सीकरण प्रतिक्रिया द्वारा प्राप्त किया जाता है, SiCl4 और अन्य कच्चे माल को ऑप्टिकल फाइबर में बनाया जाता है।
